Eccentricity measuring method, eccentricity measuring device, manufacturing method of aspheric single lens, aspheric single lens, and optical equipment



PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an eccentricity measuring method capable of separately measuring a face-to-face tilt amount and a face-to-face shift amount of an aspheric single lens accurately in a short time using an eccentricity measuring device with a simple structure. SOLUTION: The coma aberration of an optical system formed of the aspheric single lens 1, or the aspheric single lens 1 and a correcting lens 2 is measured, and the mutual face-to-face tilt amount and/or face-to-face shift amount between a first surface R1 and a second surface R2 based on the measured coma aberration value are calculated. As the coma aberration value, component of tertiary coma aberration and/or quintic coma aberration is used. The coma aberration can be measured using interferometry. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
【課題】 簡便な構成の偏心測定装置を用いて、短時間で、かつ、高精度に、非球面単レンズにおける面間ティルト量及び面間シフト量を分離して測定することができる偏心測定方法を提供する。 【解決手段】 非球面単レンズ1、または、非球面単レンズ1及び補正レンズ2からなる光学系のコマ収差を測定し、測定されたコマ収差の値に基づいて第1面R1と第2面R2との間の相互の面間ティルト量及び/又は面間シフト量を算出する。コマ収差の値としては、3次コマ収差及び/又は5次コマ収差の成分を用いる。コマ収差の測定は、干渉法を用いて行うことができる。 【選択図】 図6




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Patent Citations (6)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    JP-2000121491-AApril 28, 2000Nikon Corp, 株式会社ニコンEvaluation method for optical system
    JP-2005024504-AJanuary 27, 2005Olympus Corp, オリンパス株式会社Eccentricity measuring method, eccentricity measuring instrument, and object measured thereby
    JP-2005201703-AJuly 28, 2005Konica Minolta Opto Inc, コニカミノルタオプト株式会社干渉測定方法及び干渉測定システム
    JP-3127003-B2January 22, 2001オリンパス光学工業株式会社非球面レンズ偏心測定方法
    JP-H05223690-AAugust 31, 1993Konica Corp, コニカ株式会社Measuring device for lens transmissivity
    JP-H07167738-AJuly 04, 1995Asahi Optical Co Ltd, 旭光学工業株式会社Aspherical surface measurement method

NO-Patent Citations (0)


Cited By (11)

    Publication numberPublication dateAssigneeTitle
    CN-101922920-ADecember 22, 2010富士能株式会社Asphere measurement method and apparatus
    CN-102221449-AOctober 19, 2011鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司Auxiliary device for measuring eccentric quantity
    EP-2369319-A2September 28, 2011Fujifilm CorporationAspheric object measuring method and apparatus
    EP-2369319-A3June 20, 2012Fujifilm CorporationVerfahren und Vorrichtung zum Messen eines asphärischen Objekts
    JP-2008249415-AOctober 16, 2008Fujinon Corp, フジノン株式会社非球面レンズの面ずれ測定方法および装置
    JP-2009145081-AJuly 02, 2009Fujinon Corp, フジノン株式会社回転非対称収差の発生要因誤差量測定方法および装置
    JP-2016095316-AMay 26, 2016オリンパス株式会社, Olympus CorpEccentricity-amount measurement method and eccentricity-amount measurement device
    JP-5870234-B1February 24, 2016オリンパス株式会社偏心量計測方法及び偏心量計測装置
    WO-2012032758-A1March 15, 2012パナソニック株式会社対物レンズ、対物レンズ作製方法、対物レンズ作製装置、対物レンズ作製用金型、光ヘッド装置、光情報装置及び情報処理装置
    WO-2012132930-A1October 04, 2012富士フイルム株式会社レンズ測定装置
    WO-2016002272-A1January 07, 2016オリンパス株式会社Eccentricity amount measurement method and eccentricity amount measurement device